少量未处理的灰尘微粒或者气体分子可能严重影响一些工艺流程。请想象一下污染的空气对半导体这种高度敏感的制造工艺流程可能产生什么样的危害。
在半导体生产中，前沿的生产技术需要洁净度很高的空气，而且这一洁净度要求还在不断提高。通常要求晶圆生产环境的灰尘粒径要小于25nm（2009年），目前这一粒径值还在减小，预计到2017年将减小到10nm。气载分子污染物（AMC）也是高级晶圆厂关注的问题。很多气载分子污染物（AMC）都被证实会影响产品良率。例如，酸性气体会腐蚀硬盘或晶圆，可凝性有机物的沉降和低浓度氨气的存在会影响生产操作。
洁净室的重心就是空气过滤设备，根据不同的洁净室类型，需要考虑使用不同的过滤设备。
凭借15年以上的微电子和半导体污染控制技术行业经验以，嘉科能够提供合理的洁净空气解决方案。使以下工艺得到保护:
晶圆及半导体
微电子工艺设备
硬盘驱动
印刷电路板
平板显示
太阳能面板
